Ultra yüksek saflıklı gazlar, yarı iletken tedarik zinciri boyunca gereklidir. Aslında, tipik bir fab için, yüksek saflıkta gazlar silikondan sonraki en büyük malzeme masrafıdır. Küresel çip kıtlığının ardından, endüstri her zamankinden daha hızlı genişliyor - ve yüksek saflıklı gazlara olan talep artıyor.
Yarı iletken üretiminde en sık kullanılan dökme gazlar azot, helyum, hidrojen ve argondur.
Nitrojen
Azot atmosferinimizin% 78'ini oluşturur ve son derece boldur. Ayrıca kimyasal olarak inert ve iletken olmaz. Sonuç olarak, azot, uygun maliyetli bir inert gaz olarak bir dizi endüstriye girdi.
Yarı iletken endüstrisi, azotun büyük bir tüketicisidir. Modern bir yarı iletken üretim tesisinin saatte 50.000 metreküp azot kullanması bekleniyor. Yarıiletken üretiminde, azot, gazı inter ve temizleyen, hassas silikon gofretleri havadaki reaktif oksijen ve nemden koruyan genel bir amaç olarak işlev görür.
Helyum
Helyum inert bir gazdır. Bu, azot gibi, helyumun kimyasal olarak inert olduğu anlamına gelir - ancak aynı zamanda yüksek termal iletkenliğin ek avantajına da sahiptir. Bu, özellikle yarı iletken üretiminde yararlıdır, bu da ısıyı yüksek enerjili süreçlerden verimli bir şekilde yapmasına izin verir ve onları termal hasardan ve istenmeyen kimyasal reaksiyonlardan korumaya yardımcı olur.
Hidrojen
Hidrojen elektronik üretim süreci boyunca yaygın olarak kullanılır ve yarı iletken üretimi bir istisna değildir. Özellikle, hidrojen aşağıdakiler için kullanılır:
Tavlama: Silikon gofretler tipik olarak yüksek sıcaklıklara ısıtılır ve kristal yapıyı onarmak (tavlama) yavaşça soğutulur. Hidrojen, ısıyı gofrete eşit olarak aktarmak ve kristal yapının yeniden inşa edilmesine yardımcı olmak için kullanılır.
Epitaksi: Ultra yüksek saflıkta hidrojen, silikon ve germanyum gibi yarı iletken malzemelerin epitaksiyal birikiminde indirgeyici bir ajan olarak kullanılır.
Biriktirme: Hidrojen, atomik yapılarını daha düzensiz hale getirmek için silikon filmlere katlanabilir, bu da direnci artırmaya yardımcı olur.
Plazma temizliği: Hidrojen plazma, UV litografisinde kullanılan ışık kaynaklarından kalay kontaminasyonunun çıkarılmasında özellikle etkilidir.
Argon
Argon başka bir asil gazdır, bu nedenle azot ve helyum ile aynı düşük reaktivite sergiler. Bununla birlikte, Argon'un düşük iyonizasyon enerjisi, yarı iletken uygulamalarında yararlı hale getirir. Nispeten iyonizasyon kolaylığı nedeniyle, argon yaygın olarak etch ve yarı iletken üretiminde biriktirme reaksiyonları için birincil plazma gazı olarak kullanılır. Buna ek olarak, argon UV litografisi için excimer lazerlerinde de kullanılır.
Saflık Neden Önemlidir?
Tipik olarak, yarı iletken teknolojisindeki ilerlemeler boyut ölçeklendirme yoluyla elde edilmiştir ve yeni nesil yarı iletken teknolojisi daha küçük özellik boyutları ile karakterizedir. Bu çoklu fayda sağlar: belirli bir hacimde daha fazla transistör, gelişmiş akımlar, daha düşük güç tüketimi ve daha hızlı anahtarlama.
Bununla birlikte, kritik boyut azaldıkça, yarı iletken cihazlar giderek daha karmaşık hale gelir. Bireysel atomların pozisyonunun önemli olduğu bir dünyada, hata tolerans eşikleri çok sıkıdır. Sonuç olarak, modern yarı iletken süreçleri mümkün olan en yüksek saflığa sahip proses gazları gerektirir.
WOFLY is a high-tech enterprise specializing in gas application system engineering: electronic special gas system, laboratory gas circuit system, industrial centralized gas supply system, bulk gas (liquid) system, high purity gas and special process gas secondary piping system, chemical delivery system, pure water system to provide a full set of engineering and technical services and ancillary products from the technical consulting, overall planning, system design, selecting the equipment, prefabricated components, the installation and construction of the project Site, genel sistem testi, bakım ve diğer destekleyici ürünler entegre bir şekilde.
Gönderme Zamanı: Temmuz-11-2023